日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统

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产品名称: 日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统

产品型号: VE-2012

产品特点: 日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统
VE-2012是一种简单的真空气相沉积系统，它继承了VE-2030（由我们公司制造）的概念。

日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统 的详细介绍

日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统

通过在外壳中内置TMP来实现紧凑的外壳。由于它是台式机类型，因此不会占用空间。RP被放置在地板上。
我们以低价提供带有小TMP + RP排气系统的清洁，高真空气相沉积设备。一个简单的操作系统，消除了复杂的排气操作，仅打开和关闭开关。
可以使用钨筐沉积金，铝，铬，银等。对于碳气相沉积，使用了一种钳式气相沉积枪型，它会随着碳的蒸发而蒸发锋利的铅笔型替换芯。（不能使用Φ5mm碳棒。）

购买时，我们将选择碳气相沉积电极或金属气相沉积电极。可以选择购买其他电极。

碳蒸镀电极

Φ0.5mm碳蒸镀电极，仅用于碳。
它能够在高真真空区中沉积碳，并且可以形成具有优异膜质量和膜强度的碳膜。
附带的防污盖可醉大程度地减少碳蒸气沉积的扩散范围，并减少清洁负担。
建议使用碳SLC-30作为碳气相沉积源。

金属气相

沉积电极这是专门用于钨筐的金属气相沉积电极。
可以轻松地沉积金，铝，铬等。随附的防污罩可醉大程度地减少气相沉积范围，并减少清洁负担。

主要产品规格

项目	规范
电源	AC100V（单相100V15A）
装置尺寸	宽400毫米，深425毫米，高546毫米（设备重量25千克）
旋转泵（外部）	排气速度50ℓ/ min（G-50DA）（重量11kg）
涡轮泵（内置装置）	排气速度67ℓ/秒
样品台	直径72毫米
沉积源-样品台间距	可在0毫米至140毫米范围内调节

关于选项

2018.11.01

选配

对于气相沉积设备，我们为各种实验应用提供大量选择。此选项是一个正常的示例。我们也接受根据客户所需规格的修改，因此请与我们联系。VE-2012 ...

日本shinkuu真空简单的真空气相沉积系统

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