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日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器

产品名称: 日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
产品型号:
产品特点: 日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
◉型号NanoCVD-8G(用于石墨烯合成)
◉型号NanoCVD-8N(用于碳纳米管)
无需使用大型制造设备,每批只需30分钟即可轻松实现石墨烯/ CNT合成。
CVD方法(化学气相沉积)
CVD法是已经为多种目的而建立的稳定技术,并且当考虑将来石墨烯和CNT的大规模合成时是现实的方法。

日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器 的详细介绍

日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器

 

特性

  • 无需使用大型制造设备即可轻松进行石墨烯/ CNT(SWNT)成膜实验。
  • 每批仅30分钟!
  • 冷壁型高效,高精度的过程控制
  • 快速升温:RT→1100℃/约3分钟
  • 具有高精度温度流量控制和出色重现性的高性能机器
  • 操作简便!5英寸触摸屏可进行操作和配方管理
  • 多可以创建和保存30个配方,30个合成程序步骤
  • 软件为标准设备,输出为CSV文件在PC上记录数据
  • USB电缆连接,在PC端创建配方→可以上传到设备
 
   
   
 

外型尺寸

 
   
   
 

主要规格

A.主要规格 
1.反应室 不锈钢SUS304泄漏检查
2.加热阶段 陶瓷制成
3.相应的样本量 20 x 40毫米
4.加热加热器 高纯石墨加热器Max1050℃
5.温度控制 K型热电偶标准附件(安装在加热台下)
  
B.过程控制设备规格 
1.气体控制 质量流量控制器x 3(Ar,H2,CH4)
2.压力控制 20托FS
3.真空排气 包括爱德华兹旋转泵RV3(3立方米/小时)
4.操作面板 正面安装5英寸触摸屏(欧姆龙制造)
5.风冷 用冷却风扇冷却外壳内部
6.控制系统 PLC自动过程控制
  
C.软件(标准附件) 
1. nanoCVD软件 标配(已安装石墨烯的标准程序)
2.界面 USB 2.0连接
3.设置数 多30个配方,30个程序创建和保存步骤
  
D.气体导入连接规格 
1.工艺气体 1/4英寸世伟洛克卡套管接口,用于Ar,H2,CH4 x 3
2.载气 Φ6mm推锁式管接头,用于N2或Ar x 1
  
E.安全装置 
1.过热 由加热台安装热电偶控制
2.机壳内部过热 从内部温度开关
3.气压异常 来自质量流量控制器
4.真空度降低 来自真空传感器
  
F.实用程序 
电源 AC200V单相50 / 60Hz 13A
1.工艺气压 30psi 200sccm以下
2.载气压力 60-80磅/平方英寸
  
G.尺寸/重量 
1.尺寸 405mm(宽)x 415mm(深)x 280mm(高)
2.重量 约27公斤
 
   

nanoCVD-8G(石墨烯)

纳米CVD-8N(CNT)


带旋转泵的nanoCVD-8G

通过CVD化学气相沉积法在短时间内在金属基底催化剂(Cu,Ni箔等)上合成单层石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平台上以醉高1100°C的高温烘烤,并在减压下供应原料气体(甲烷),氮气和氢气。

◇◆标准设备配置◆◇

  • ●用于石墨烯生成,真空过程控制
  • 标配旋转泵(选件:TMP,扩散泵或干泵)
  •  3个供气系统(标准)
  • 样品台大1100℃
  •  K型热电偶


*以下选项也可满足其他要求的实验目的(单独讨论)。

  • 增加气体导入口(改变和增加气体种类)
  • 增加干泵系统
  • 增加额外的腔室/加热台并改变台结构

 


使用nanoCVD-8G样品加热台] [nanoCVD-8G后面板]生产的石墨烯的拉曼光谱


日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器

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