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简易型高纯度半导体气体测量用微量分析计
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产品名称:
简易型高纯度半导体气体测量用微量分析计
产品型号:
CRDS
产品特点:
简易型高纯度半导体气体测量用微量分析计技术路线采用高性能光腔衰荡光谱 (CRDS) 技术,通过测量激光在高品质谐振腔内的指数衰荡时间,直接换算出 ppm/ppb 级痕量气体浓度,无需化学试剂或耗材 。代表机型SPARK 系列免校准、免耗材,生命周期成本低小流量即可高响应,可测 H₂O、CO、CO₂、CH₄、C₂H₂ 等多种杂质适用于高纯气体、半导体特气、低温分离装置等场景 HALO
简易型高纯度半导体气体测量用微量分析计
的详细介绍
简易型高纯度半导体气体测量用微量分析计
简易型高纯度半导体气体测量用微量分析计
技术路线
采用高性能光腔衰荡光谱 (CRDS) 技术,通过测量激光在高品质谐振腔内的指数衰荡时间,直接换算出 ppm/ppb 级痕量气体浓度,无需化学试剂或耗材 。
代表机型
在 SPARK 基础上扩展了 NH₃ 等更多杂质通道,同样免维护
主要面向超高纯气体与半导体工艺
免校准、免耗材,生命周期成本低
小流量即可高响应,可测 H₂O、CO、CO₂、CH₄、C₂H₂ 等多种杂质
适用于高纯气体、半导体特气、低温分离装置等场景
SPARK 系列
HALO KA Max 系列
性能亮点
检测下限:常见杂质 1 ppb–100 ppt 级
免校准、长期零漂移,适合无人值守在线运行
接气部分为 SUS 等耐腐材质,可测腐蚀性气体;传感器与激光/探测器非接触,长期稳定性高
技术路线
采用高性能光腔衰荡光谱 (CRDS) 技术,通过测量激光在高品质谐振腔内的指数衰荡时间,直接换算出 ppm/ppb 级痕量气体浓度,无需化学试剂或耗材 。
代表机型
在 SPARK 基础上扩展了 NH₃ 等更多杂质通道,同样免维护
主要面向超高纯气体与半导体工艺
免校准、免耗材,生命周期成本低
小流量即可高响应,可测 H₂O、CO、CO₂、CH₄、C₂H₂ 等多种杂质
适用于高纯气体、半导体特气、低温分离装置等场景
SPARK 系列
HALO KA Max 系列
性能亮点
检测下限:常见杂质 1 ppb–100 ppt 级
免校准、长期零漂移,适合无人值守在线运行
接气部分为 SUS 等耐腐材质,可测腐蚀性气体;传感器与激光/探测器非接触,长期稳定性高
典型应用
半导体厂高纯 N₂、H₂、Ar、He 中 H₂O、CO、CO₂、CH₄、NH₃ 的 ppb 级监控
空分、低温分离装置产品质量保证
钢瓶充装、槽车运输过程抽检
使用与维护
开机即用,无需量程切换、漂移校正或耗材更换
结构紧凑,可台式、19″机架或便携式安装;支持模拟/数字输出,方便接入 DCS
总结:TEKHNE 的 CRDS 分析计以“免校准、免耗材、ppb 级精度"为核心卖点,SPARK 与 HALO KA Max 两大系列覆盖了从现场抽检到半导体超纯气体在线监测的多种需求,是当前痕量水分和气体杂质检测的利器。
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