日本新见产业 NZ 系列氧化锆球
日本新见产业 NZ 系列氧化锆球
设备基础规格
材质:钇稳定氧化锆
密度:6.01g/cm³
圆度:91.5%‑95.8%
标准粒径:NZ10φ10μm,NZ30φ30μm,NZ50φ50μm
HLC 窄分布型号:NZ30HLCφ30μm,NZ50HLCφ50μm
平均压缩破坏强度:147kgf/mm²
产品特点:表面抛光处理,耐磨耗,不易开裂崩角
NZ 系列氧化锆珠采用钇稳定氧化锆材质制作,球体经过精密抛光加工,表面光滑洁净,加工过程杂质混入量极低,可以有效避免研磨过程给物料带来额外污染。产品具备优异机械强度,抗压性能突出,运行过程不易出现崩角、开裂破损问题,大幅减少碎珠混入物料的风险。产品拥有很高真球度,球体形态规整,标准款具备良好粒径区间,HLC 版本进一步收窄粒径分布,粒度区间更加尖锐均匀。均匀的颗粒可以优化珠磨机内部运动状态,缩短物料分散处理时长,同时抑制研磨腔内粘度异常上升,保障设备长时间稳定运行。产品耐磨性能优异,摩耗率低,耗材使用寿命更长,降低生产换料频次与耗材综合成本。NZ10 为超细规格,适配对研磨细度要求高的纳米加工场景,NZ30、NZ50 作为通用主流型号适配多数纳米分散、微粉碎工况,HLC 系列针对对粒度一致性要求严苛的工艺选用。整套系列适配各类湿式珠磨设备,从超细纳米研磨到常规精细粉碎都可以覆盖,材料本身韧性优良,高速搅动冲击条件下依旧保持稳定,不会轻易产生碎屑,保障成品物料纯度,兼顾生产加工效率与产品品质,满足工业化连续批量生产的使用要求。
适用场景用于电子材料、压电材料、颜料油墨、涂料、纳米粉体、医药食品物料的湿式分散与微粉碎加工,适配各类卧式、立式珠磨机,也可用于微粒子喷丸等表面处理工艺,广泛应用新材料、精细化工、油墨涂料、医药食品加工行业。
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