日本 ANELVA 电离真空计控制器 M‑431HG

日本 ANELVA 电离真空计控制器 M‑431HG日本 ANELVA 电离真空计控制器 M‑431HG

设备基础规格

• 压力显示范围：0.01×10⁻⁷～13.2×10⁰Pa

• 压力表示：数字，测量范围自动切换

• 设定值：2 点标准配置，带滞后功能

• D/A 出力：Log 或复合输出切换，0～10V

• 模拟输出：0～10V

• 通信功能：RS232C 标准，9600、4800、2400、1200bps

• 外形尺寸：104W×99H×296D mm

• 重量：1.2Kg

• 功耗：50VA，AC90～240V 50/60Hz

• 发射电流：10μA、100μA、1mA，自动切换或固定

• 脱气方式：栅极通电加热，通电定时 3 分钟

• 合规标准：CE 认证，RoHS

该款电离真空计控制器是适配小型真空规管的专用控制单元，整体采用机架式安装结构，适配工业机柜集成使用，支持宽幅交流电压输入，能够适配不同地区工厂供电条件。设备自带 RS232C 通讯接口，可直接对接上位控制系统，实现真空压力数据采集、设备状态回传，无需额外加装转换模块，降低整套真空监测系统的搭建成本。同时配备完整外部输入输出端子，支持远程完成灯丝启停、脱气启停、参数锁定等操作，也可输出设定点状态、灯丝工作状态、脱气状态信号，方便接入自动化设备联锁逻辑。设备具备耗材保护机制，压力达到阈值可自动关闭灯丝，减少规管灯丝损耗，延长耗材使用寿命。本机搭载两点带滞后的压力设定，可用于真空工艺的阈值报警与工艺联动控制，数字显示屏自动适配测量量程，操作人员无需手动切换档位，读数直观清晰。整机通过 CE 与 RoHS 合规认证，硬件稳定性强，可长期连续运行，适配半导体、镀膜行业的工艺环境，面对多腔体真空系统也可稳定完成多路压力监测工作，减少现场调试工作量。

适用场景用于自动化真空装置内部压力测定，可应用于溅射等镀膜工艺过程压力测量与工艺控制，也可用于多腔体真空系统压力监测，各类普通工业真空设备的真空度检测，广泛服务半导体制造、真空镀膜、材料处理等行业的真空工况。