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近红外半导体检查SWIR冷却相机

产品名称: 近红外半导体检查SWIR冷却相机
产品型号: BH-71IGA
产品特点: 近红外半导体检查SWIR冷却相机
穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)。

近红外半导体检查SWIR冷却相机 的详细介绍

近红外半导体检查SWIR冷却相机
近红外半导体检查SWIR冷却相机
穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)

穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)

穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)

穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)

穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)

穿透硅材料,适用于半导体检测,具有高分辨率成像(可达1280×1024),能够识别材料化学成分差异,以及对温度变化不敏感等优势。这些特性使得SWIR相机在半导体晶圆检测中能够穿透硅材料成像,定位内部缺陷(分辨率达10μm)


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