样品加热采用直接通电加热线式(TC 接触式样品支架),样品搬运机支持 X,Y,Z,θ 及面内回转轴的 5 轴操作,实现样品的多自由度精准定位。分析室真空度可达 10⁻⁸Pa(TMP 排气),可选 IP 排气系统实现 10⁻⁹Pa 超高真空;试样加载锁定装置标准配备,确保样品转移过程的真空密封性。燃气引入系采用高精度可变泄漏阀,可精确控制实验气体流量;超高真空排气控制系统支持全自动排气控制,通过触摸面板实现便捷操作。
多分析功能集成:同时支持 LEED 衍射、AES 分析、升温脱附分析与金属薄膜制备,一站式完成材料表面表征。
超高真空性能:分析室真空度可达 10⁻⁸Pa,可选配 IP 排气系统实现 10⁻⁹Pa,满足高洁净度实验需求。
多自由度样品操控:5 轴样品搬运机支持 X,Y,Z,θ 及面内回转,实现样品的精准定位与多角度分析。
模块化扩展设计:可根据实验需求选配蒸发源、氢裂解枪等模块,适配不同表面科学研究场景。
全自动控制:触摸面板式全自动排气控制系统,简化实验操作流程,提升实验效率。
半导体材料表面结构与成分分析
模型触媒材料的 LEED/AES 表征
金属薄膜制备与表面处理实验
材料升温脱附动力学研究
| 项目 | 规格说明 |
|---|---|
| 表面分析系 | LEED/AES 质量分析仪 |
| 蒸发源 | 超高真空蒸发器 AEV 系列 |
| 氢裂解枪 | AEV 系列 |
| 样品加热 | 直接通电加热线式(TC 接触式样品支架) |
| 样品搬运机 | X,Y,Z,θ, 面内回转轴 5 轴操作 |
| 升温脱附分析 | 四重极质量分析计 |
| 燃气引入系 | 高精度可变泄漏阀 |
| 分析室真空度 | 10⁻⁸Pa(TMP 排气),可选 10⁻⁹Pa(IP 排气系统) |
| 排气控制 | 全自动排气控制(触摸面板) |
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