日本 DTS 硅片高精度倒角轮日本 DTS 硅片高精度倒角轮
设备基础规格
结合剂类型:ME 金属结合剂
加工基材:硅晶圆、SiC、蓝宝石、LT 钽酸锂、石英晶圆
槽型可选:R 型圆弧、T 型槽、左右不对称特殊槽型
精度表现:真圆度改善 60%,同轴度改善 80%
寿命表现:相较传统产品寿命提升约 60%
适配工件:6 英寸硅晶圆等多规格半导体晶圆
加工效果:表面粗糙度优良,降低后续抛光工序负荷
核心产品特性
为半导体晶圆边缘加工专门开发,采用 ME 金属结合剂金刚石结构,砂轮外周设计专用倒角轮槽,大幅优化轮槽精度与槽底几何公差,相比传统产品精度实现显著提升。针对半导体高细线化生产需求,能够稳定控制硅片外周倒角宽度与倒角形状,减少晶圆边缘棱角缺陷,有效提升芯片外周区域成品良率。产品跳动精度优异,金刚石层相对柄部位置稳定,加工一致性好。砂轮切削性能出色,沟槽形状保持能力强,加工后工件表面质量好,可减少倒角之后的抛光工作量,缩短后续工序工时,降低耗材损耗,实现整体加工成本下降。该倒角轮使用寿命相比传统型号提升 60%,真圆度、同轴度指标分别得到 60%、80% 的改善,减少砂轮更换频次,适配产线连续化作业。除主流硅晶圆之外,还可兼容 SiC、蓝宝石、钽酸锂、石英等多种硬质晶圆,支持 R 型、T 型以及不对称特殊槽型定制,覆盖普通边缘倒角与缺口部位倒角多种加工工况,可满足不同半导体器件制造的工艺要求。
适用场景
应用于半导体制造环节,主要完成硅晶圆边缘倒角、晶圆缺口部位倒角精加工,适配 6 英寸等规格硅片加工,同时适用于 SiC、蓝宝石、LT 钽酸锂、石英等各类化合物半导体晶圆的边缘倒角工序,多用于半导体晶圆加工厂、功率器件产线的晶圆边缘处理工位。
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