高均匀性半导体金属卤化物 UV曝光照明单元

高均匀性半导体金属卤化物 UV曝光照明单元

高均匀性半导体金属卤化物 UV曝光照明单元

✅ 产品核心特点

✅ 应用方向

✅ 优势总结

• 高均匀性照明：适合微米级线条曝光，边缘清晰度高
• 稳定输出：内置反馈传感器，实时调节灯管功率，保证曝光一致性
• 模块化设计：可替换灯管、滤光片、反光罩，维护方便
• 低热影响：高效散热结构，减少热漂移对掩模的影响
• 兼容性强：可接入现有曝光机、掩模对准机、步进式光刻机系统

✅ 可选配件

• 滤光片模块（365 nm 带通、405 nm 带通）
• 快门单元（气动或电动）
• 光纤导光接口（用于远程照明）
• 灯管寿命监控模块（提醒更换）

✅ 总结一句话：

MUL-135 是一套高均匀性、高稳定性的 金属卤化物 UV曝光照明单元，专为精密光刻和微结构曝光设计，适用于半导体、MEMS、PCB 等行业的 i-line（365 nm）曝光系统，是替代传统汞灯、提升曝光一致性的理想光源模块。

✅ 产品核心特点

✅ 应用方向

✅ 优势总结

• 高均匀性照明：适合微米级线条曝光，边缘清晰度高
• 稳定输出：内置反馈传感器，实时调节灯管功率，保证曝光一致性
• 模块化设计：可替换灯管、滤光片、反光罩，维护方便
• 低热影响：高效散热结构，减少热漂移对掩模的影响
• 兼容性强：可接入现有曝光机、掩模对准机、步进式光刻机系统

✅ 可选配件

• 滤光片模块（365 nm 带通、405 nm 带通）
• 快门单元（气动或电动）
• 光纤导光接口（用于远程照明）
• 灯管寿命监控模块（提醒更换）

✅ 总结一句话：

MUL-135 是一套高均匀性、高稳定性的 金属卤化物 UV曝光照明单元，专为精密光刻和微结构曝光设计，适用于半导体、MEMS、PCB 等行业的 i-line（365 nm）曝光系统，是替代传统汞灯、提升曝光一致性的理想光源模块。