这款设备无需真空系统,在大气压下即可稳定运行,通过紫外光激发臭氧,配合加热台面的温度控制,实现对硅、玻璃、GaN/GaAs/InP/SiC 等化合物半导体、蓝宝石、陶瓷基板的有机物高效去除。可处理 φ100 mm 基板及 4 英寸晶圆,加热台面不仅能加快清洗速率,还能模拟实际制程温度,让工艺结果更贴近生产场景。
SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗机在设计上充分考虑了工业使用的安全性与便捷性:配备上盖连锁机制,上盖开启时系统无法运行,避免误操作;自带臭氧分解装置,确保排气时臭氧浓度降至安全范围;同时支持自动 N₂ purge 循环、加热台面保险丝保护、臭氧洗涤及紧急停止按钮,保障生产安全。
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