加藤计研 GII 系列 520nm PIV 激光光源

设备基础参数

1. 功率型号：GII-1W、GII-2W、GII-5W、GII-10W

2. 发射波长：520nm 绿色，CW 连续振荡半导体激光

3. 光学特性：低漏光、无孔洞均匀薄片光，长时测量光衰抑制优秀

4. 适配场景：气流可视化、液体搅拌流场、液相荧光粒子 PIV 测量

5. 安装方式：紧凑型机身，支持三脚架、夹具固定

6. 安全配置：钥匙开关、急停按钮、设备联锁、机械遮光装置

7. 功率选型逻辑：

• 1W/2W：小范围近距离低速流场拍摄

• 5W 及以上：中大尺度流场、高速短曝光拍摄

• 10W：大范围风洞、荧光粒子液相实验

核心产品特性

1. 长期稳定激光输出，实验重复性高

   简化半导体光路结构，长时间连续测量可抑制光量波动，每次拍摄条件一致，PIV 数据分析结果可重复。

2. 低漏光均匀薄片光，粒子成像清晰度高

   无空洞薄层片状光，流场断面照射均匀，大幅提升示踪粒子画面对比度，避免光线不均导致解析精度下降。

3. 四档多功率覆盖全品类流体实验

   从小型水槽搅拌到大型风洞喷流均有对应功率型号，高速相机短曝光、荧光粒子等高光需求场景可选用大功率机型。

4. 小巧机身适配狭小实验空间

   激光头体积紧凑，设备夹缝、密闭腔体、小型试验台均可布置，兼容标准光学三脚架与工装夹具。

5. 全套标准化安全机构，实验室合规使用

   标配多重激光安全防护组件，满足科研实验室激光管理规范，可直接接入高校、研究院流体测试平台。

适用加工场景