超声波洗槽应用小流量超纯水循环纯水装置

产品名称: 超声波洗槽应用小流量超纯水循环纯水装置

产品型号: KCP-4006LK

产品特点: 超声波洗槽应用小流量超纯水循环纯水装置
日本 Reiken（冷研）KCP-4006LK 是一台“高精度控制、高操作性"的纯水循环装置，专为洁净室、实验室、超声波洗槽、CMP、显影等需要18 MΩ·cm 超纯水且24 h 不间断的场景设计。设备把RO + 离子交换 + 0.1 µm 终端过滤 + 在线 TOC 监测集成到 0.25 m² 占地，出水电阻率 18.2 MΩ·cm @ 25 °C，TOC

超声波洗槽应用小流量超纯水循环纯水装置 的详细介绍

超声波洗槽应用小流量超纯水循环纯水装置

日本 Reiken（冷研）KCP-4006LK 是一台“高精度控制、高操作性"的纯水循环装置，专为洁净室、实验室、超声波洗槽、CMP、显影等需要18 MΩ·cm 超纯水且24 h 不间断的场景设计。设备把RO + 离子交换 + 0.1 µm 终端过滤 + 在线 TOC 监测集成到 0.25 m² 占地，出水电阻率 18.2 MΩ·cm @ 25 °C，TOC ≤ 3 ppb，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，广泛用于半导体 7 nm、OLED 蒸镀、钙钛矿电池、精密洗槽补液的洁净循环纯水站。

✅ 核心卖点

18.2 MΩ·cm 稳定：RO + 混床 + 精混床三级，电阻率漂移 < 0.1 MΩ·cm / 24 h
在线 TOC ≤ 3 ppb：185 nm UV 氧化 + 电导池检测，无需额外取瓶
0.1 µm 终端：PES 折叠囊式，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，终端死体积 < 30 mL
高精度控制：流量 0.6 – 6 L/min 任意设定，PID 变频恒压，压力波动 < ±0.01 MPa
高操作性：7 寸触控 + 一键排空 / 一键消毒 / 一键校准，30 s 完成换柱
24 h 连续：内循环旁路，停机 7 天再启动 5 min 即达 18 MΩ·cm
占地 0.25 m²：600 × 420 × 580 mm，可放桌面或 19" 机架

⚙️ 技术参数（KCP-4006LK）

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项目	参数
产水水质	电阻率 18.2 MΩ·cm @ 25 °C，TOC ≤ 3 ppb，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)
产水量	6 L/min（MAX），0.6 – 6 L/min 变频调节
给水要求	城市自来水 / RO 水，电导率 < 200 μS/cm，压力 0.1 – 0.4 MPa
预处理	10" PP + 活性炭 + 1 µm 保安过滤器
RO 单元	2540 卷式，脱盐率 > 98 %，回收率 50 %
离子交换	混床 + 精混床（核级树脂），装填量 2.5 L + 1 L
UV-TOC	185 nm + 254 nm 双波长，在线 TOC 监测
终端过滤	0.1 µm PES 折叠囊式（POD），死体积 < 30 mL
在线监测	电阻率 + TOC + 温度 + 流量 + 压力，1 s 记录
控制方式	7 寸彩色触控 + PLC，配方 50 组
数据接口	USB-A + RS-485（Modbus RTU）+ 以太网（TCP/IP）
消毒功能	一键化学消毒（0.1 % NaOH）+ 热水消毒 80 °C
排空功能	一键排空管路，换柱 30 s 完成
电源	AC 100-240 V 50/60 Hz，400 W
尺寸 / 重量	600 × 420 × 580 mm / 45 kg
环境	0 – 40 °C，< 80 % RH（无冷凝）

🎯 典型使用场景

超声波清洗槽补液：6 L/min 在线循环，电阻率 ≥18 MΩ·cm，Particle < 1 pc/L
CMP 后冲洗：恒压 0.2 MPa，TOC ≤ 3 ppb，无金属污染
OLED 蒸镀掩模清洗：最后一道漂洗，无水印、无颗粒
钙钛矿电池制备：空穴传输层旋涂前冲洗，TOC < 5 ppb
实验室玻璃器皿最后漂洗：18.2 MΩ·cm 即取即用

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