模块化双单元设计:控制单元与脉冲发生单元分体式设计,参数调节直观便捷,便于维护与系统集成。
高稳定性脉冲输出:陡沿高压脉冲输出,波形干净无杂波,能高效激励等离子体,适配多种工艺需求。
灵活参数定制:支持多种电路拓扑与参数定制,可调整输出电压、脉冲宽度、重复频率,适配不同应用场景。
丰富扩展能力:可搭配高压开关、滤波器等附带设备,组成完整的等离子处理系统,拓展应用场景。
等离子体发生与材料表面处理
排水、排气净化与杀菌处理
半导体制造、薄膜生成工艺
科研实验室等离子体激励实验
发动机燃烧促进、大肠杀菌等工业应用
| 项目 | 说明 |
|---|---|
| 电路拓扑 | 支持半导体型、MARX 型、SOS 型、LTD 型等多种定制拓扑 |
| 控制单元功能 | 主电压设定、副电压设定、脉冲调节、占空比控制 |
| 输出波形 | 陡沿高压脉冲,实测电压幅度可达 - 1.4kV 以上 |
| 接口配置 | 高压输出接口、同步信号端口、外部触发端口 |
| 适配场景 | 等离子体处理、杀菌净化、材料改性、半导体制造等 |
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