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半导体领域用光学薄膜测量仪测厚仪

产品名称: 半导体领域用光学薄膜测量仪测厚仪
产品型号: FE-300
产品特点: 半导体领域用光学薄膜测量仪测厚仪
产品信息 特 长 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由绝对反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000机种90%的强大功能 无复杂设定,操作简单,短時...

半导体领域用光学薄膜测量仪测厚仪 的详细介绍


半导体领域用光学薄膜测量仪测厚仪
半导体领域用光学薄膜测量仪测厚仪
产品信息 特 长 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由绝对反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000机种90%的强大功能 无复杂设定,操作简单,短時...

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量,同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等,可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量,同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等,可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量,同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等,可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量,同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等,可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量,同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等,可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。




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