高精度台式快速涂布机

高精度台式快速涂布机
高精度台式快速涂布机

特点

• 快速碳涂层制备：采用flash式蒸发法，能够在短时间内完成碳涂层的制备，减少了制样时间。
• 节省碳棒：在蒸发作业时，无需对碳棒进行研磨，节省了碳棒的使用。
• 均匀涂层：通过旋转泵的排气，确保试样表面的碳粒粒子均匀分布，提高了涂层的均匀性。
• 前开门设计：前面门开闭式设计，便于试料的交换和操作。
• 多种涂层次数选择：涂层次数可在1回至19回之间任意设定，满足不同的涂层需求。
• 快速涂层时间：每次涂层时间仅为0.3秒，提高了工作效率。

技术参数

应用

• 电子显微镜（SEM）和电子探针微分析（EPMA）的试料制备：适用于非导电性试料的表面处理，提高试料的导电性，便于进行电子显微镜观察。
• 高真空下的碳涂层制备：采用高真空下的flash式蒸发法，确保碳涂层的质量。

特点

• 快速碳涂层制备：采用flash式蒸发法，能够在短时间内完成碳涂层的制备，减少了制样时间。
• 节省碳棒：在蒸发作业时，无需对碳棒进行研磨，节省了碳棒的使用。
• 均匀涂层：通过旋转泵的排气，确保试样表面的碳粒粒子均匀分布，提高了涂层的均匀性。
• 前开门设计：前面门开闭式设计，便于试料的交换和操作。
• 多种涂层次数选择：涂层次数可在1回至19回之间任意设定，满足不同的涂层需求。
• 快速涂层时间：每次涂层时间仅为0.3秒，提高了工作效率。

技术参数

应用

• 电子显微镜（SEM）和电子探针微分析（EPMA）的试料制备：适用于非导电性试料的表面处理，提高试料的导电性，便于进行电子显微镜观察。
• 高真空下的碳涂层制备：采用高真空下的flash式蒸发法，确保碳涂层的质量。

特点

• 快速碳涂层制备：采用flash式蒸发法，能够在短时间内完成碳涂层的制备，减少了制样时间。
• 节省碳棒：在蒸发作业时，无需对碳棒进行研磨，节省了碳棒的使用。
• 均匀涂层：通过旋转泵的排气，确保试样表面的碳粒粒子均匀分布，提高了涂层的均匀性。
• 前开门设计：前面门开闭式设计，便于试料的交换和操作

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• 多种涂层次数选择：涂层次数可在1回至19回之间任意设定，满足不同的涂层需求

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• 快速涂层时间：每次涂层时间仅为0.3秒，提高了工作效率

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技术参数

应用

• 电子显微镜（SEM）和电子探针微分析（EPMA）的试料制备：适用于非导电性试料的表面处理，提高试料的导电性，便于进行电子显微镜观察

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• 高真空下的碳涂层制备：采用高真空下的flash式蒸发法，确保碳涂层的质量

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