日本 ACTIVE ACT‑300AⅡ‑HS 旋涂机

日本 ACTIVE ACT‑300AⅡ‑HS 旋涂机日本 ACTIVE ACT‑300AⅡ‑HS 旋涂机

设备基础规格

• 兼容基板尺寸：Φ5‑Φ150mm，最大支持 6 英寸基板

• 杯体内径：Φ300mm

• 外形尺寸：W400×D570×H410mm

• 电源：100V 10A，伺服电机 400W，50‑60Hz

• 转速范围：0‑12000rpm，转速精度 ±2rpm 以内

• 基板吸附压力：‑70~‑80kPa

• 程序配置：10 步骤，100 组模式存储

• 外壳材质：SUS304 不锈钢

• 安全盖材质：透明 PVC，带滴液开孔与滑动盖板

• 整机重量：约 35kg

该款日本 ACTIVE 高速旋涂机主打高精度高速旋转成膜能力，最高转速能够达到 12000rpm，转速控制误差被控制在正负 2rpm 以内，加速响应迅速，可在 2.5 秒以内完成满速拉升，能够满足不同薄膜工艺对转速切换的严苛要求。设备标配带有磁力传感器的安全联锁防护盖，开盖即停止设备运行，基板吸附未到位也无法启动旋转，从硬件层面规避操作风险，安全盖预留滴液开孔搭配滑动盖板，设备运转过程中依旧可以完成滴液加料，无需停机开盖，提升实验连续性。设备内置程序存储器，支持 10 步骤分段编辑，可存储 100 套工艺模式，不同基板、不同药液对应的涂布配方可以直接调取调用，减少反复参数调试的工作量，单片机搭配数字键盘，操作逻辑简单易懂，科研人员可以快速上手编写涂布流程。整机主体选用 SUS304 不锈钢材质，抗药液腐蚀，杯体可选择特氟龙涂层，适配各类有机溶剂、化学浆料的涂布作业。设备预留丰富选配空间，可加装自动滴注单元、特种样品夹具、外置真空泵、电磁锁等配件，滴注单元支持注射器加压、加压罐、微量注射等多种滴加方式，适配微量、大流量等不同滴液需求，夹具也可按照客户基板规格定制加工，无论是实验室研发打样，还是小批量工艺试产，都可以灵活匹配实际工况。设备适配多种药液体系，不局限于光刻胶，各类高分子溶液、浆料都可以开展成膜评估，设备本体为台式结构，占地面积不大，普通实验室台面即可安放，无需复杂基建改造。

适用场景广泛应用于半导体晶圆工艺研发，太阳能电池薄膜制备，光学镜片、眼镜镜片涂膜加工，纳米材料、生物技术相关实验，液晶显示相关研究，医疗材料涂层开发，各类薄膜涂层的实验室研发，工艺评估以及小批量生产工作，也可用于高校科研院所材料实验室开展旋转涂覆相关课题实验。