高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

产品名称: 高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

产品型号: PC-600系列

产品特点: 高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

日本 Pureron 的 PC-600 系列是专为 Cl₂、HCl、Br₂、BCl₃、SiCl₄、WF₆、HF 等强腐蚀性卤素气体设计的高纯压力传感器，采用全贵金属隔膜 + 哈氏合金壳体 + 特殊卤素钝化工艺，在半导体刻蚀、LED 外延、光伏扩散、化工合成等工艺中实现长期零泄漏、零漂移、零粒子的精准压力监测。
✅ 1. 适用介质
Cl₂、H

高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器 的详细介绍

高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

日本 Pureron 的 PC-600 系列是专为 Cl₂、HCl、Br₂、BCl₃、SiCl₄、WF₆、HF 等强腐蚀性卤素气体设计的高纯压力传感器，采用全贵金属隔膜 + 哈氏合金壳体 + 特殊卤素钝化工艺，在半导体刻蚀、LED 外延、光伏扩散、化工合成等工艺中实现长期零泄漏、零漂移、零粒子的精准压力监测。

✅ 1. 适用介质

Cl₂、HCl、BCl₃、SiCl₄、WF₆、HF、Br₂、SO₂Hal、NF₃ 等
电导率 < 0.1 µS/cm 的超纯卤素气体
离子注入、扩散、刻蚀、CVD、ALD 前端供气面板

✅ 2. 核心结构

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部件	材质	特点
隔膜	Au（金） + Pt（铂）双层贵金属膜	100 % 抗卤素腐蚀，无应力腐蚀开裂
壳体	哈氏合金 C-276 一体加工	无焊缝死角，电解抛光 Ra ≤ 0.25 µm
密封	金属刃口密封（Metal Seal）	无 O-ring，氦漏率 < 1×10⁻¹¹ Pa·m³/s
填充液	无油干式	零粒子、零油蒸气，真空至 10⁻⁹ Torr
表面钝化	卤素等离子体钝化	形成 Cr₂O₃ + Au-Pt 复合钝化层，寿命 > 10 年

✅ 3. 性能参数

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项目	规格
压力范围	0 – 0.1 MPa、0 – 0.2 MPa、0 – 1 MPa、-0.1 – 0 MPa（真空）
输出信号	4-20 mA（两线制）、0-5 V、0-10 V、RS-485 Modbus RTU
精度	±0.25 % FS（可选 ±0.1 %）
温度漂移	≤ ±0.02 % FS/°C
长期漂移	≤ ±0.1 % FS/年（卤素气体中）
工作温度	-20 – +80 °C（环境）、0 – +100 °C（介质）
电源	DC 12 – 30 V
防护	IP65，可选 IP67 防爆型（Ex db IIC T6）
接气接口	1/4" VCR 内螺纹（面密封），可选 1/2" VCR、NW16
电气接口	M12 ×1 4-pin 或 6-pin

✅ 4. 真空-高压两用

真空型 PC-600V：-100 – 0 kPa，金膜 + 哈氏 C276，氦质谱检漏 < 1×10⁻¹¹ Pa·m³/s
高压型 PC-600H：0 – 1 MPa，全金属密封，耐压 4 MPa 爆破测试

✅ 5. 典型应用点

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工艺	安装位置	目的
Cl₂ 刻蚀	质量流量计 MFC 入口	实时压力补偿，防止 MFC 漂移
HCl 扩散炉	炉管前端供气面板	真空启动阶段压力监视
WF₆ CVD	前驱体钢瓶出口	钢瓶加热压力安全联锁
BCl₃ ICP-RIE	气体分配模块	卤素气体分配平衡
HF 合成反应器	反应釜顶部	腐蚀性气体压力远传

✅ 6. 寿命与维护

连续运行 > 5 年零漂移（实测 Cl₂ 中 3 年漂移 < 0.05 %）
无零点调整：贵金属隔膜无蠕变
年度校准：只需标准气压源，无需拆管
返回检修：Pureron 提供卤素净化 + 金膜再生服务

✅ 7. 选型速查

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型号	量程	输出	接口	备注
PC-600A-01	0 – 0.1 MPa	4-20 mA	1/4" VCR	标准型
PC-600V-00	-100 – 0 kPa	0-10 V	1/2" VCR	真空型
PC-600H-10	0 – 1 MPa	RS-485	NW16	数字型
PC-600EX-01	0 – 0.2 MPa	4-20 mA	1/4" VCR	Ex db IIC T6 防爆

一句话总结
PC-600 系列 = “全贵金属隔膜 + 哈氏 C276 壳体" 的卤素专用压力传感器，无 O-ring、无油、零漂移，在 Cl₂、HCl、WF₆ 等强腐蚀气体中连续 5 年免维护，是半导体刻蚀、LED 外延、光伏扩散等

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高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

✅ 1. 适用介质

✅ 2. 核心结构

✅ 3. 性能参数

✅ 4. 真空-高压两用

✅ 5. 典型应用点

✅ 6. 寿命与维护

✅ 7. 选型速查

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