日本 Thermo Riko GV 红外导入加热装置

Name: 日本 Thermo Riko GV 红外导入加热装置GV 系列
Brand: 其他品牌
Price: 1111 CNY
Availability: InStock

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产品名称: 日本 Thermo Riko GV 红外导入加热装置

产品型号: GV 系列

产品特点: 日本 Thermo Riko GV 红外导入加热装置
GV 系列红外导入加热装置，可在超高真空、气流等多种气氛环境下对样品做非接触红外辐照快速加热，支持 ICF70 法兰安装，可集成到各类真空系统与分析设备。升温速率高，仅对样品局部加热，不加热周边腔体，无放气与电磁干扰，包含高速升温、超高真空、加压气氛等多种机型，适配不同实验条件。

日本 Thermo Riko GV 红外导入加热装置 的详细介绍

日本 Thermo Riko GV 红外导入加热装置

设备基础规格

高速升温型 GV/GVL

GV154：功率 500W，最高温度 1100℃，加热面积 Φ14mm，最大升温 100℃/sec，极限真空 5×10⁻⁷Pa，冷却水量 1L/min

GV198：功率 1kW，最高温度 1300℃，加热面积 Φ20mm，最大升温 100‑150℃/sec，极限真空 5×10⁻⁷Pa，冷却水量 1L/min

GVL298：功率 2kW，最高温度 1500℃，加热面积 Φ20mm，最大升温 100‑150℃/sec，极限真空 5×10⁻⁷Pa，冷却水量 2L/min

GVL398：功率 3kW，最高温度 1600℃，加热面积 Φ20mm，最大升温 100‑150℃/sec，极限真空 5×10⁻⁷Pa，冷却水量 2L/min

安装接口：ICF70 法兰

升温性能：最高 150℃/sec，GVL298 升至 1500℃约 1 分钟

机型分类：高速升温型、超高真空型、大气加热型、加压气氛型、特殊定制规格

可选 CE 合规版本

核心产品特性

该套装置依靠红外光聚焦实现样品非接触式加热，不会对真空腔体与周边构件造成温升，热干扰小。设备升温响应迅速，高速机型最大升温速率可达 150℃每秒，短时间即可抵达目标高温，大幅缩短实验周期。加热过程无热源放气问题，也不会产生电磁感应干扰，适合对真空度、电磁环境敏感的实验场景。采用 ICF70 标准法兰接口，拆装便捷，能够直接装配至各类真空腔体、XPS、XRD、PLD 等分析仪器内部使用。产品机型覆盖范围广，除标准高速升温机型以外，还提供超高真空、加压气氛版本，可满足磁场环境、带载荷加热、快速降温等特殊实验需求。整套设备采用水冷结构保障长时间连续运行，也可提供符合 CE 标准的机型，适配出口科研设备项目。椭圆反射光学结构将红外光线精准汇聚于样品位置，能量利用率高，加热区域集中，保障样品受热稳定可控。

适用场景

用于硅、碳化硅、石墨烯材料快速升温退火实验，可完成氧化气氛晶体生长、薄膜制备，支持氮气、氢气环境基板加热。适配 X 射线、紫外辐照条件下样品升温，可集成于升温脱附分析、XPS、XRD、PLD 设备内部，也可开展磁场环境、加压气氛、带载荷条件下的样品加热，多用于高校实验室、科研院所新材料研发。

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