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日本 NGK 半导体静电吸盘

产品名称: 日本 NGK 半导体静电吸盘
产品型号:
产品特点: **日本 NGK 半导体静电吸盘**
NGK 静电吸盘采用氮化铝、氧化铝陶瓷基材,支持 200‑450mm 晶圆,耐受‑50~700℃宽温域,具备耐腐蚀、低颗粒特性,可集成加热、冷却、RF 电极功能,适配半导体等离子工艺。

日本 NGK 半导体静电吸盘 的详细介绍

日本 NGK 半导体静电吸盘

日本 NGK 半导体静电吸盘

设备基础规格

  • 适配晶圆尺寸:200mm、300mm、450mm

  • 电极形式:单极、双极可选

  • 工作温度范围:‑50℃~700℃

  • 基材材质:氮化铝 AIN、氧化铝 Al₂O₃

  • 可选功能:加热模组、冷却模组、Bulk RF 电极

  • 纯度:最高可达 99.9% 以上

  • 耐环境:对卤素类腐蚀气体具备耐腐蚀性


该款 NGK 陶瓷静电吸盘专为半导体晶圆工艺开发,依托陶瓷介电基材与精准的体积电阻率控制,实现稳定的晶圆静电吸附,可适应从低温到高温的宽幅工况。产品具备高强度、高导热、优异耐热冲击性能,经过特殊表面与清洗处理,实现晶圆背面低颗粒污染,满足半导体洁净生产要求。产品支持多种功能集成,内置埋入式发热体可实现晶圆温度 ±1% 高精度控温;搭配高导热陶瓷与冷却基板,获得优秀冷却性能;Bulk 电极方案可同时完成晶圆吸附与 RF 等离子生成,简化设备结构。氮化铝基材有多款材料等级可选,可根据导热、电阻率、强度需求选型,同时具备优秀抗卤素腐蚀能力,适配刻蚀等腐蚀工艺环境。电极支持单极、双极两种方案,覆盖 200/300/450mm 主流晶圆规格,全部可按设备实际工况做定制开发,广泛匹配各类半导体工艺设备,配件稳定性强,可降低晶圆加工过程中的颗粒污染与温度偏差,保障制程良率。


适用场景主要用于半导体制造领域,应用于刻蚀、薄膜沉积等等离子工艺设备,对硅晶圆进行静电吸附固定,服务半导体晶圆厂、半导体设备厂商,可适配研发样机以及量产设备使用。


深圳市秋山贸易有限公司,2017 年成立,深耕日本进口精密仪器供应链 9 年,直连日本众多原厂资源,减少中间流通环节。长期合作 ORIHARA 折原、KETT 凯特、MARKTEC 码科泰克、SIBATA 柴田科学、SUN RHEO 太阳科学、ROBOTMATION、CMT、电色工业、YEC 創朋等众多日系品牌。主营光学检测、物性试验、粉体处理、食品农产检测、理化分析,服务高校科研院所、第三方检测机构、政企单位,可提供设备选型、进口订货、原厂资料对接、售后协调的全流程配套服务。


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