日本笠原理化工业 CU-800 铜浓度监测仪

日本笠原理化工业 CU-800 铜浓度监测仪日本笠原理化工业 CU-800 铜浓度监测仪

设备基础规格

• 测量范围：高浓度 0.0~80.0g/L，低浓度 0.00~20.00g/L

• 分解能：高浓度规格 0.1g/L，低浓度规格 0.01g/L

• 显示：LED 红色 4 位，带测量显示 OFF 功能

• 传输输出：DC4~20mA 绝缘型，负载电阻 250~500Ω，3 量程手动选择

• 精度：±2%（指定条件下）

• 周围温度：0~40℃

• 水样温度：0~70℃，超过 70℃需咨询

• 温度补偿：半导体温度传感器自动温度补偿

• 电源电压：AC100/110V，带 3P 插座，标准电缆长 5m

• 功耗：约 20VA 以下

• 接液材质：PPS、蓝宝石或石英、PP

• 样品压力：0.2MPa 以下

核心产品特性整机采用检测器与变送器一体化结构，无需复杂配套安装工程，现场校准、日常维护操作简单，有效降低产线运维工作量。仪器采用吸光光度法进行铜浓度检测，搭载半导体温度传感器自动温度补偿，消除温度波动带来的测量偏差，保障长时间在线监测数据稳定可靠。配备 3 档量程可选，支持 DC4~20mA 隔离电流输出，测量信号可接入各类调节仪表，构建闭环自动管控系统，实时调控药液铜浓度。接液部件选用 PPS、石英、PP 等耐腐耐热材质，适配电镀、蚀刻等腐蚀性药液工况，抗药液侵蚀，设备使用寿命更长。操作面板仅 4 个功能按键，操作逻辑简单，搭配 LED 数字大屏，读数直观清晰，自带报警与维护指示灯，异常状态快速识别。整机功耗低，支持立柱或墙面安装，适配产线狭小空间，可 24 小时不间断连续监测，稳定满足工业药液在线检测需求，帮助工厂稳定工艺、减少药液浪费，提升产品良率。

适用场景主要用于 PCB 线路板、电子电镀行业，在线连续监测硫酸铜电镀液、铜蚀刻液中的铜离子浓度，广泛应用于电镀生产线、蚀刻工艺产线、半导体湿法工艺车间，适用于各类需要实时管控铜药液浓度的化工、电子制造工厂，实现药液浓度在线监控与自动化工艺管理。