半导体 ALD/ALE应用深度除水净化装置

半导体 ALD/ALE应用深度除水净化装置

半导体 ALD/ALE应用深度除水净化装置

✅ 核心卖点

• 长期免维护——连续除水 2 000 h（实际考核 2 500 h）后 H₂O 出口才升到 10 ppb，停机再生一次只需 8 h
• < 1 ppb 出口保证——新填料初始值 ≤ 0.5 ppb，客户可任选 1 ppb 报警点
• 真正无氧——整个流路 316L EP + VCR 金属密封，无橡胶管，O₂ 增量 < 0.1 ppb
• 双塔 Hot-Swap——一塔工作一塔待机，切换过程出口水分波动 < 5 ppb
• 在线再生——无需拆罐，闭环抽真空 + 加热吹扫，现场 8 h 完成
• 数据完整——内置 32 GB 记录，Modbus/以太网实时输出，满足 SEMI S2 审计

⚙️ 性能参数（SiWOF-2000 标准型）

🔁 双塔工作流程

1. A 塔工作——B 塔待机加热抽空（前 6 h）→ 高纯 N₂ 冷却（后 2 h）
2. 自动切换——当 A 塔出口 H₂O = 10 ppb，PLC 0.1 s 切到 B 塔，出口波动 < 5 ppb
3. 循环使用——单塔寿命 2 000 h，两塔交替实现理论无限连续

📈 典型应用

• 半导体 ALD/ALE： gate 氧化物界面 H₂O < 1 ppb，降低 VT 漂移
• OLED 蒸镀：防止有机层水解，提高发光效率 8 %
• 钙钛矿太阳能电池：涂布前 N₂ 净化，效率重复性 ↑ 15 %
• 核聚变装置：托卡马克吹扫气 Ar 深度除水，降低等离子体杂质
• 手套箱循环：与循环泵联动，箱内 H₂O 稳定 < 0.1 ppm

🧩 可选型号

🛠️ 维护与验证

• 在线露点仪：内置 TDLAS 传感器，0.1 ppb 分辨率，可外接第二方冷镜仪比对
• 再生无需人工：PLC 自动抽真空→升温→吹扫→冷却，一键启动
• 年度备件：仅需更换再生排气过滤器（PTFE，0.1 µm），5 分钟完成
• 审计文件：提供 SPC 趋势、再生记录、粒子增量报告，符合 SEMI F57 & Gaseous Standards

✅ 一句话总结