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ULVAC 等离子体发生电源 溅射工艺专用

产品名称: ULVAC 等离子体发生电源 溅射工艺专用
产品型号: 脉冲直流
产品特点: ULVAC 等离子体发生电源 溅射工艺专用
日本 ULVAC 等离子体发生电源系列,专为 PVD 溅射、CVD、刻蚀等成膜工艺设计,覆盖直流、脉冲、低频等多种类型,适配半导体、显示器、新能源等行业,为高精度薄膜制备提供稳定电力支持。

ULVAC 等离子体发生电源 溅射工艺专用 的详细介绍
ULVAC 等离子体发生电源 溅射工艺专用
ULVAC 等离子体发生电源 溅射工艺专用
ULVAC 爱发科作为全球真空与等离子体工艺设备领域的品牌,旗下等离子体发生电源系列,是专为 PVD 溅射、CVD、刻蚀、灰化等成膜工艺设计的高性能电源系统,产品阵容覆盖直流、直流脉冲、低频等多种类型,可满足不同工艺的电力需求,为半导体与电子器件、显示器、可再生能源、存储器、汽车等行业的薄膜制备提供可靠的电力支持。
在成膜工艺中,电源的选择直接影响生产效率与薄膜质量,ULVAC 针对不同工艺特性优化电源设计:直流电源(Model:DC/Model:Digital DC)兼具可靠性与弧处理功能,适配常规溅射工艺;直流脉冲电源(Model:DC PULSE)通过脉冲输出控制,改善溅射过程中的靶材起弧问题,提升成膜均匀性;低频电源(Model:SG)专为双阴极溅射、等离子体 CVD 设计,支持 20kHz-100kHz 宽频连续输出,适配各类等离子负载。此外,系列还包含外置单元(Model:A2K/Model:MFU),可与主电源配合使用,拓展工艺应用场景。
不同工艺对电源的要求存在差异,ULVAC 电源系列支持根据工艺需求灵活选型,从研发阶段的小批量实验到工业生产线的大规模量产,均有适配型号。设备采用模块化设计,支持多种控制方式,部分型号可选配 RS232C、RS485、EtherCAT 等通讯接口,可实现与上位机的远程通讯与自动化控制,适配智能产线的集成需求。凭借稳定的输出性能、灵活的工艺适配能力,ULVAC 等离子体发生电源成为各类成膜工艺的优选配套电源,助力提升薄膜制备的质量与生产效率。

核心产品阵容

表格
产品类型型号适用工艺
直流电源Model:DC/Model:Digital DC常规溅射、等离子清洗
直流脉冲电源Model:DC PULSE脉冲溅射、易起弧靶材工艺
低频电源Model:SG双阴极溅射、等离子体 CVD
外置单元Model:A2K/Model:MFU工艺拓展、辅助电源控制


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