小型研发用 DLC 类金刚石成膜装置

Name: 小型研发用 DLC 类金刚石成膜装置PBII—R450
Brand: 其他品牌
Price: 9999 CNY
Availability: InStock

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产品名称: 小型研发用 DLC 类金刚石成膜装置

产品型号: PBII—R450

产品特点: 小型研发用 DLC 类金刚石成膜装置
栗田製作所 DLC 成膜装置，是一款专为研发场景设计的小型设备，体积紧凑，真空排气时间短，适合制作试样与采集基础数据，为 DLC 类金刚石薄膜的研发提供高效、便捷的解决方案。

小型研发用 DLC 类金刚石成膜装置 的详细介绍

小型研发用 DLC 类金刚石成膜装置

栗田製作所（Kurita Seisakusho）作为专注于等离子体与真空技术的专业厂商，旗下 DLC 成膜装置，是一款专为 DLC 类金刚石薄膜研发设计的小型设备，凭借紧凑结构、快速真空排气与稳定成膜性能，成为实验室材料研发的优选设备，为 DLC 薄膜的试样制备与基础数据采集提供可靠支持。

这款装置专为研发场景优化设计，体积紧凑，占用空间小，适配实验室有限空间；同时真空排气时间短，可快速进入工作状态，大幅缩短实验周期，提升研发效率。其真空槽采用单面门式设计，尺寸为 410mm×410mm×410mm（约 70L），容量适中，适合小批量试样制备，满足不同研发阶段的实验需求。设备配备真空系统，由涡轮分子泵、机械增压泵、旋片泵组成，可实现 1.33×10⁻³Pa 以下的高真空环境，保障 DLC 成膜过程的清洁与稳定；同时配备电离真空计、皮拉尼真空计、隔膜真空计、数字压力开关等多种真空测量仪器，可精准监测真空压力，确保工艺参数的准确性。

成膜系统配置灵活，配备高压脉冲电源与脉冲 RF 电源，高压脉冲电源输出电压 - 20kVp、电流 10Ap，充电容量 1.5kW，重复频率 500Hz~5000Hz 可调；脉冲 RF 电源功率 750W（13.56MHz），可变更为 1500W 或 3000W 规格，满足不同 DLC 成膜工艺的功率需求。设备支持 7 种气体通道，适配 Ar、H₂、CH₄、N₂、HMDSO 等多种工艺气体，通过自动压力控制阀精准控制气体压力，结合质量流量控制器实现稳定供气，为 DLC 薄膜的沉积提供均匀、可控的工艺环境。

控制方式支持手动 / 自动运行，采用触摸屏输入，操作便捷，可灵活调整工艺参数；同时配备数字示波器，可实时监测输出电压与电流，便于工艺优化与数据采集。设备整体尺寸紧凑，各单元模块分明，可选配冷却水用冷水机、废气处理装置、压缩机等配件，进一步拓展设备的应用场景。凭借紧凑高效、稳定可控的特性，栗田製作所 DLC 成膜装置为 DLC 类金刚石薄膜的研发提供了高效、便捷的解决方案，助力实验室开展材料改性与表面处理研究。

核心参数概要

表格

参数项	规格值
电源输入	三相 AC200V±10% 50/60Hz，约 25kVA
真空槽尺寸	410mm×410mm×410mm（约 70L），单面门式
控制方式	手动 / 自动运行（触摸屏输入）
极限真空压力	1.33×10⁻³Pa 以下
真空系统	涡轮分子泵 + 机械增压泵 + 旋片泵
气体压力控制	自动压力控制阀（200A 法兰）
真空计配置	电离 / 皮拉尼 / 隔膜真空计、数字压力开关
质量流量控制器	7 系统（Ar、H₂、CH₄、C₂、N₂、C₆H₆、HMDSO）
高压脉冲电源	输出 - 20kVp/10Ap，充电容量 1.5kW，频率 500~5000Hz
脉冲 RF 电源	750W（13.56MHz），可升级为 1500W/3000W
设备尺寸	真空装置：2150×1705×900mm；操作盘：1210×1685×800mm；高压电源柜：850×1730×940mm
适用场景	DLC 类金刚石薄膜研发、试样制备、材料表面改性实验

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