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日本 NEOARK 薄膜垂直磁性特性评估装置

产品名称: 日本 NEOARK 薄膜垂直磁性特性评估装置
产品型号:
产品特点: 日本 NEOARK 薄膜垂直磁性特性评估装置
专为大尺寸晶圆样品开发,可完成垂直磁性堆叠膜、MTJ 膜等材料的磁性检测,支持最大 12 英寸薄片试样,具备晶圆映射评估能力,半导体激光光源波长可协商定制。

日本 NEOARK 薄膜垂直磁性特性评估装置 的详细介绍
日本 NEOARK 薄膜垂直磁性特性评估装置

日本 NEOARK 薄膜垂直磁性特性评估装置


设备基础规格
‑测量对象:薄片垂直磁性材料,最大支持 12 英寸晶圆,适配 MTJ 膜等试样
‑使用光源:半导体激光,波长可协商
‑空间分辨率:Φ1mm
‑最大印加磁场:20kOe(2T)起

‑设备类型:大型晶圆映射评估设备

‑输出功能:晶圆面磁性分布映射、磁滞回线采集存储


设备为大型一体化机柜式检测设备,面向晶圆级垂直磁性材料开展批量评估,可对 12 英寸以内薄片试样进行全域映射扫描,获取样品表面磁性分布数据。采用半导体激光作为探测光源,可根据被测薄膜材质调整光源波长,适配多类磁性堆叠膜、MTJ 膜的测试需求。设备可输出最高 20kOe 的外磁场条件,满足高矫顽力垂直磁性薄膜的磁滞回线测试。配套专业操作软件,自动完成扫描、数据采集、映射图谱生成,支持数据导出保存。整机结构稳固,能够降低环境振动对微弱磁光信号带来的干扰,保障大尺寸晶圆多点扫描检测的数据一致性,减少人为操作带来的测试偏差,适合产线前期研发以及晶圆样品批量评估工作。


适用于半导体材料企业、磁存储研发机构、高校科研实验室,用于垂直磁性堆叠膜、MTJ 薄膜等试样检测,开展 12 英寸及以内晶圆样品磁性映射评估,薄膜磁滞特性测试,新材料工艺开发验证,也可用于晶圆不同位置磁性均匀性比对分析。


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