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日本 NEOARK 薄膜平面磁特性评价装置

产品名称: 日本 NEOARK 薄膜平面磁特性评价装置
产品型号:
产品特点: 日本 NEOARK 薄膜平面磁特性评价装置
设备配置面内旋转磁场,可快速完成面内磁特性以及磁化偏角评估,最大可兼容 12 英寸晶圆,支持薄膜样品映射评估,半导体激光光源波长可协商定制。

日本 NEOARK 薄膜平面磁特性评价装置 的详细介绍

日本 NEOARK 薄膜平面磁特性评价装置

日本 NEOARK 薄膜平面磁特性评价装置


设备基础规格
‑测量对象:薄膜面内磁性材料,最大 12 英寸晶圆,适配磁传感器用薄膜试样
‑使用光源:半导体激光,波长可协商
‑空间分辨率:φ1mm
‑最大印加磁场:20kOe(0.2T)~

‑设备功能:面内旋转磁场测试、磁化偏角评估、薄膜映射扫描、磁滞回线采集


设备搭载面内旋转磁场系统,摆脱单一方向磁场的测试局限,短时间内完成面内磁特性与磁化偏角检测,有效缩减样品测试耗时。设备支持最大 12 英寸大尺寸晶圆试样,可开展整片晶圆映射扫描,获取样品不同点位磁性分布数据,用来评判薄膜制备工艺的均匀程度。探测光源选用半导体激光,可根据被测材料特性调整光源波长,适配各类磁传感器薄膜等面内磁性试样。设备由主机柜体与控制机柜组合构成,搭载配套操作软件,完成磁场调控、信号采集、映射图谱生成、磁滞回线输出,原始测试数据可完整留存。整机抗干扰能力良好,降低外界环境对微弱磁光信号带来的影响,既满足科研研发阶段多样品测试,也可完成晶圆试样工艺验证与批量评估工作。


适用于半导体生产企业、磁传感器研发企业、高校以及材料科研院所,开展磁传感器薄膜等面内磁性薄膜性能检测,12 英寸以内晶圆映射评估,面内磁特性与磁化偏角快速测定,薄膜新材料工艺开发,晶圆样品磁性均匀性对比分析。
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