半导体行业应用等离子清洁器装置

半导体行业应用等离子清洁器装置

半导体行业应用等离子清洁器装置

CP-Plasner®是一款利用13.56MHz高频率的等离子体产生装置。主要领域包括电子显微镜等表面观察技术。这是为了去除附着在分析装置真空容器内壁上的有机类污染物。

两项利技术带来稳定与安心。

采用了已获得利的气体流量调节振动器和等离子体点火方法。
在清洁过程中，真空容器内的压力不会发生波动。
我们会与客户协商所需处理的药膜的工艺条件，并选择最合适的流量调节振动器。

• 由于清洁过程中没有压力波动，因此可以生成稳定的等离子体，而RF反射量不会发生变化。

• 从清洗开始到结束均可通过一键操作实现。这里没有任何复杂的操作。

• 清洁条件可通过触摸屏进行设置。还会显示放电状态（RF入反射）。

CP-Plasner®是一款利用13.56MHz高频率的等离子体产生装置。主要领域包括电子显微镜等表面观察技术。这是为了去除附着在分析装置真空容器内壁上的有机类污染物。

两项利技术带来稳定与安心。

采用了已获得利的气体流量调节振动器和等离子体点火方法。
在清洁过程中，真空容器内的压力不会发生波动。
我们会与客户协商所需处理的药膜的工艺条件，并选择最合适的流量调节振动器。

• 由于清洁过程中没有压力波动，因此可以生成稳定的等离子体，而RF反射量不会发生变化。

• 从清洗开始到结束均可通过一键操作实现。这里没有任何复杂的操作。

• 清洁条件可通过触摸屏进行设置。还会显示放电状态（RF入反射）。