日本 NANOTEC ICF‑330 DLC 成膜实验装置

Name: 日本 NANOTEC ICF‑330 DLC 成膜实验装置
Brand: 其他品牌
Price: 1119 CNY
Availability: InStock

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产品名称: 日本 NANOTEC ICF‑330 DLC 成膜实验装置

产品型号:

产品特点: 日本 NANOTEC ICF‑330 DLC 成膜实验装置
ICF‑330 是紧凑型 DLC 成膜实验设备，搭载标准 PSII 电源，可拓展多种成膜电源系统，实现与大型量产设备同等的复合镀膜实验，采用触控配方全自动控制，适配科研单位开展类金刚石涂层工艺研发。

日本 NANOTEC ICF‑330 DLC 成膜实验装置 的详细介绍

日本 NANOTEC ICF‑330 DLC 成膜实验装置

设备基础规格

真空槽尺寸：330W×330D×410H mm

有效成膜面积：φ150×150L；搭载溅射功能时为 φ110L

基板支架：自公转式，支持根据样品形状定制

可搭载系统：PSII 电源（标配）、DLC 离子源、溅射电源、DLC 剥离电源

到达真空压力：6.7E‑4Pa 以下

排气速度：6.7E‑3Pa 条件下，30 分钟内完成抽气

基板加热机构：选配座椅加热器

基板偏置：最大 5kV，250mA，0.2~2kHz，功耗 5~50%

设备控制：配方界面全自动运行

排气系统：涡轮分子泵 + 旋转泵

供电规格：三相 200V，10kVA

设备占地面积：2.5W×2.5D×2.0H m

冷却水条件：2 千克力 / 平方厘米，20 升 / 分钟

压缩空气：5kgf/cm2 以上

核心产品特性

ICF‑330 DLC 成膜实验装置依托品牌成熟 DLC 成膜技术开发，机身结构紧凑，占用实验室空间小，但性能对标大型量产镀膜设备，单台设备即可完成多种复合成膜工艺试验。设备标配 PSII 电源，可按需加装 DLC 离子源、溅射电源、DLC 剥离电源，灵活切换离子沉积、溅射镀膜等多种工艺模式。基板采用自公转支架，样品摆放均匀，镀膜层厚度一致性好，支架结构支持定制，能够适配异形、非标准试样。整机依靠配方界面实现全自动运行，可预设整套工艺参数，减少人为操作带来的误差，降低实验操作门槛。真空系统配置涡轮分子泵搭配旋转泵，抽气效率稳定，能够快速达到实验所需高真空环境。基板偏置参数调节范围宽泛，可调试不同的涂层附着力、硬度等性能指标，基板加热机构作为选配组件，拓展更多工艺条件。设备专为研发场景设计，方便科研人员调试 DLC 类金刚石涂层工艺，开展涂层配方、工艺参数摸索，为后续量产设备工艺落地提供可靠实验数据支撑。

适用场景

高校、科研院所 DLC 类金刚石涂层工艺研发；新材料表面改性实验；零部件耐磨防护涂层小试样试制；复合真空镀膜工艺摸索；镀膜工艺前置验证、量产工艺参数预实验；材料摩擦学、表面工程相关实验室。

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