日本 SDI ND‑0407‑N1‑CE 浸渍提拉镀膜仪

日本 SDI ND‑0407‑N1‑CE 浸渍提拉镀膜仪日本 SDI ND‑0407‑N1‑CE 浸渍提拉镀膜仪

设备基础规格

• Z 轴行程：150mm

• X 轴行程：150mm

• 最小运行速度：1nm/sec

• 最大运行速度：60mm/sec

• 操作方式：触摸屏

• 显示语言：日语、英语可切换

• 速度设定点：16 点

• 停止位置设定点：16 点

• 停止时间设定点：16 点

• 存储程序数量：8 个

• 支持模式：连续运行、手动运行、循环运行

• 标准夹具：PP 材质

• 供电规格：AC100V‑240V，300VA

• 最大可搬运重量：500g

• 最大处理工件高度：100mm

• 主机外形尺寸：宽 410× 深 256× 高 513mm，重量 11kg

• 控制盒外形尺寸：宽 380× 深 400× 高 200mm，重量 10kg

ND‑0407‑N1‑CE 浸渍提拉镀膜仪是面向科研开发的次世代浸涂设备，由京都大学平尾研究室参与指导开发，整机拥有 CE 安全认证，满足海外实验室使用规范。设备实现 1nm 级别的超细微速度调控，支持双轴独立运行或者复合联动，既可以完成常规垂直浸涂，也可以通过 θ 角机构实现斜向提拉，依靠角度变化调整涂膜状态。设备可完成两种不同液体的交替涂布工艺，在提拉运行途中能够动态变更运行速度，以此精准调控薄膜厚度，丰富实验工艺选择。设备搭载触控操作面板，最多可设置 16 组速度变化点位，可记忆存储 8 套动作程序，支持循环运行，方便科研人员重复开展对照实验，保障成膜工艺的可复现性。操作界面支持日语英语一键切换，适配多国科研人员使用。设备可对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状基材等多种样品进行浸涂加工，能够用于欧泊膜成型、纳米粒子排布、蛋白石薄膜制备等多种研究场景。整机采用分体式结构，主机与控制盒分离，体积小巧，占用实验台空间少，安装调试简单，无需复杂的前期改造，开箱即可投入薄膜制备实验。

适用场景高校、科研院所实验室薄膜制备，欧泊膜、纳米级薄膜、蛋白石薄膜研发，纳米粒子阵列制备，玻璃、铜箔、管状基材浸涂工艺开发，溶胶凝胶法相关实验研究，新材料开发、涂层工艺条件摸索等科研工作。