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日本 C&A C-01 提拉法结晶育成装置

产品名称: 日本 C&A C-01 提拉法结晶育成装置
产品型号:
产品特点: 日本 C&A C-01 提拉法结晶育成装置
C-01 为感应加热型提拉法单晶生长设备,配备石英腔体与不锈钢双开门结构,搭载 CCD 监测熔体液面。可移动上法兰与加热线圈优化操作便利性,生长过程能够实时调控温度梯度,支持电脑控制与互联网远程操作,适合各类氧化物单晶研发制备。

日本 C&A C-01 提拉法结晶育成装置 的详细介绍
日本 C&A C-01 提拉法结晶育成装置
日本 C&A C-01 提拉法结晶育成装置

设备基础规格

  1. 射频电源:40kW

  2. 最高温度:2100℃(受坩埚材质限制)

  3. 提拉速度:0.1~10 mm/hr、2~300 mm/min

  4. 振荡频率:5~9.9 kHz

  5. 供电条件:三相 200V±10%,50/60Hz

  6. 腔体结构:石英腔体、不锈钢双开门

  7. 监测配置:CCD 相机观测熔体液面

  8. 操控方式:电脑本地控制,支持互联网远程控制

核心产品特性

C-01 提拉法结晶育成装置基于感应加热工艺,采用经典 Czochralski 单晶生长原理。设备搭载可移动式上法兰结构,投料、更换坩埚等操作更加便捷;加热线圈支持位移调节,晶体生长全程动态调整温度梯度。配备 CCD 视觉系统,可持续观察熔体表面状态,便于工艺实时调整。整套系统由计算机进行生长流程控制,同时支持网络远程监控操作,自动化程度高。腔体采用石英透明腔室,可视性优良,适配激光晶体、氧化物单晶、氟化物单晶等多种功能晶体研发与小批量试制。

适用生产场景

高校、科研院所单晶材料实验室;激光晶体、光学氧化物单晶试样研发;闪烁晶体、压电晶体提拉工艺开发;新型功能单晶材料基础科研;中小尺寸高质量单晶试样制备。


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