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日本 JUSTEM ATM‑01 晶圆厚度测定机

产品名称: 日本 JUSTEM ATM‑01 晶圆厚度测定机
产品型号:
产品特点: 日本 JUSTEM ATM‑01 晶圆厚度测定机
JUSTEM ATM‑01 为可集成于蚀刻设备的在线晶圆厚度测定机,采用静电电容传感器实现非接触多点测量,适配 12 英寸硅片,可部署在装载、卸载侧完成工序前后厚度检测。

日本 JUSTEM ATM‑01 晶圆厚度测定机 的详细介绍
日本 JUSTEM ATM‑01 晶圆厚度测定机

日本 JUSTEM ATM‑01 晶圆厚度测定机


设备基础规格
‑被测工件:Si 硅片
‑工作尺寸:φ12 英寸
‑薄片厚度:700~850μm
‑设备形式:床设置式在线装置
‑设置环境:1000 级洁净环境
‑装置尺寸:W600×D1000×H1150 (mm)
‑装置重量:300 公斤
‑电源:单相 100V 50/60Hz
‑压空:0.5MPa 以上
‑真空:附带真空泵
‑测量传感器:电容传感器
‑测量精度:重复 10 次标准偏差 0.1μm 以下
‑测量点:十字 5 点测量

‑节拍时间:φ12 英寸十字 5 点测量 70 秒 / 枚


该设备属于半导体产线专用在线测厚装置,可直接集成配套蚀刻设备,分别安装在装载机侧与卸载机侧,完成硅片进入蚀刻工序前、加工完成后的厚度数据采集,实现边缘工程工序的在机检测,无需将晶圆转移至外部检测工位,减少晶圆转运带来的污染、磕碰风险。设备依托静电电容传感器执行非接触式测量,测量探头不接触硅片表面,不会划伤晶圆,能够稳定完成十字五点多点厚度采集,也可根据项目实际需求,自定义调整测量位置与测量点数,适配不同产品的检测方案。每次测量作业之前,设备可调用校准规完成传感器自动校准,降低环境漂移带来的测量误差,保障长期连续生产工况下的数据稳定性,十次重复测量标准偏差可控制在 0.1μm 以下,满足半导体行业严苛的微米级检测要求。整机适配 1000 级洁净车间使用环境,自带真空泵,供电、气源配置贴合工厂现场工况,单枚 12 英寸硅片完成五点检测节拍 70 秒,可匹配产线流转节奏,为蚀刻工艺效果评估、晶圆厚度均匀性分析提供可靠实测数据。


主要用于半导体硅晶圆蚀刻边缘工程,面向 12 英寸硅片开展在线厚度检测,广泛应用半导体芯片制造、硅材料加工企业,用于工序前后厚度对比、工艺效果验证、晶圆厚度均匀性判定等生产管控工作。


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