日本松定精密Matsusada HECD 系列高压电源

日本松定精密Matsusada HECD 系列高压电源

日本松定精密Matsusada HECD 系列高压电源

设备基础规格

• 输出通道：2 通道独立输出

• 输出电压：±0.5kV ~ ±7.5kV 多型号可选

• 输出电流：1.2mA‑20mA 各通道独立规格

• 响应时间：10ms‑90ms（无负载典型值）

• 硬件尺寸：半机架紧凑型结构

• 通讯接口：标配 LAN、USB、RS‑232C，可选 EtherCAT

• 内置配置：13.56MHz RF 低通滤波器、晶圆感应监测

• 可选功能：微小电流监测、中点偏置、2 出力独立控制、7m 高压电缆

• 供电输入：AC100V‑240V

核心产品特性

 HECD 系列是日本松定精密面向半导体静电吸盘开发的半机架双通道高压电源，整机采用紧凑半机架尺寸，节省机柜安装空间，适配设备小型化集成需求。设备搭载晶圆感应检测功能，能够实时监控晶圆吸附状态，实现可靠的基板吸附与释放动作，提升工艺良率。采用放大器硬件架构，极性切换无需机械继电器，兼顾高速响应与长使用寿命，可兼容库仑力型、型两类静电吸盘。具备极性反转、强制接地功能，完成工艺后平滑释放晶圆基板，减少碎片风险，提升设备吞吐效率。标配 LAN、USB、RS‑232C 数字接口，也可选配 EtherCAT 总线，方便对接自动化产线控制系统。设备内置 13.56MHz 的 RF 低通滤波器，抵御等离子工艺射频干扰，保障高压输出稳定。支持中点偏置、双通道独立控制、微电流监测等选配功能，高压线缆也可按需选配，还支持 4 通道、6 通道等定制化改造，电压参数同样支持定制，适配光刻、刻蚀、CVD 等多种半导体工艺工况。

适用场景 

适配半导体静电卡盘供电，用于光刻、CVD、PECVD、干法刻蚀、RIE 等离子刻蚀设备，实现晶圆、平板面板的吸附搬运，广泛应用于各类半导体制造设备。