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ACT-220AII 旋转涂布机——高性能薄膜制备的实验室利器
在现代材料科学、半导体制造、光学技术以及生物技术等领域，薄膜制备是关键的工艺步骤之一。旋转涂布技术因其操作简便、成本低、成膜均匀等优点，被广泛应用于实验室和工业生产中。日本ACTIVE公司推出的 ACT-220AII 旋转涂布机，凭借其高性能、高精度和多功能性，成为薄膜制备领域的理想选择。
1. ACT-220AII 旋转涂布机概述
ACT-220AII 是一款桌面型旋转涂布机，专为小型实验室和研究机构设计，适用于半导体、太阳能电池、光学透镜、纳米技术、生物技术以及液晶显示器等领域的薄膜制备。该设备以其紧凑的设计、高性价比和广泛的适用性而受到全球科研人员和工程师的青睐。
2. 技术特点
2.1 高精度旋转控制
ACT-220AII 提供 0-7000 rpm 的旋转速度范围，精度高达 ±1 rpm。这种高精度的旋转控制能够确保薄膜的均匀性，满足不同材料和工艺的需求。
2.2 多段式程序控制
设备支持 10步×100模式 的程序记忆，用户可以根据实验需求设置复杂的多段涂布程序。此外，还可以切换为 50步×20模式，进一步优化涂布过程。
2.3 安全设计
ACT-220AII 配备带联锁传感器的安全盖，能够在旋转过程中滴液，同时确保操作人员的安全。这种设计不仅提高了操作的便利性，还有效防止了溶剂挥发和样品污染。
2.4 适用基板尺寸
该设备适用于 φ5mm至φ100mm 的基板，最大支持 φ4英寸 或 □70mm 的样品。这种广泛的适用性使其能够满足多种实验需求。
2.5 便捷连接
ACT-220AII 本体和真空泵侧配备一键式连接器，便于管路连接。此外，设备还提供定制选项，可根据用户需求调整配置。
3. 应用领域
3.1 半导体制造
在半导体制造中，ACT-220AII 用于光刻胶的涂布，能够确保薄膜的均匀性和高精度，从而提高光刻工艺的质量。
3.2 太阳能电池
在太阳能电池的制造过程中，旋转涂布技术用于沉积薄膜材料，如透明导电氧化物（TCO）和钙钛矿。ACT-220AII 的高精度控制能够确保薄膜的均匀性和光电性能。
3.3 光学透镜
在光学透镜的制造中，ACT-220AII 用于抗反射膜和增透膜的涂布。其高精度的旋转控制能够确保薄膜的均匀性，从而提高光学性能。
3.4 纳米技术与生物技术
在纳米技术和生物技术领域，ACT-220AII 用于制备纳米材料和生物传感器的薄膜。其多段式程序控制能够满足复杂的涂层需求，确保薄膜的均匀性和功能性。
3.5 液晶显示器
在液晶显示器的制造中，ACT-220AII 用于显示面板的薄膜涂层。其高精度和多功能性能够满足不同工艺的需求，提高生产效率和产品质量。
4. 技术规格
- 旋转速度范围：0-7000 rpm，精度±1 rpm。
- 适用基板尺寸：φ5mm至φ100mm，最大支持φ4英寸或□70mm。
- 电源：1Φ 100V-10A（AC伺服电机200W），50/60Hz。
- 真空泵：需要外接真空泵，排量12L/min以上。
- 外形尺寸：250×330×272mm（安全盖关闭时）。
- 重量：18kg。
- 材料：不锈钢电解抛光（可选特氟龙涂层）。
5. 使用案例
5.1 半导体光刻胶涂布
在某半导体实验室中，研究人员使用 ACT-220AII 对硅片进行光刻胶涂布。通过设置多段式程序，设备能够在不同速度下进行涂布，确保光刻胶的均匀分布。实验结果显示，使用 ACT-220AII 制备的光刻胶薄膜具有优异的均匀性和一致性，显著提高了光刻工艺的成功率。
5.2 透明导电氧化物薄膜沉积
在太阳能电池研究中，研究人员利用 ACT-220AII 沉积透明导电氧化物（TCO）薄膜。设备的高精度旋转控制和多段式程序设计能够确保薄膜的均匀性和导电性。实验表明，使用 ACT-220AII 制备的 TCO 薄膜具有良好的光电性能，显著提高了太阳能电池的转换效率。
6. 优势总结
ACT-220AII 旋转涂布机凭借其高精度、多段式程序控制、安全设计和广泛的适用性，成为薄膜制备领域的理想选择。无论是在半导体制造、太阳能电池、光学透镜、纳米技术还是生物技术领域，ACT-220AII 都能够提供稳定、高效和可靠的涂布解决方案。
7. 结论
ACT-220AII 旋转涂布机以其高性能、高精度和多功能性，成为实验室和工业生产中薄膜制备的理想选择。其紧凑的设计、安全的操作和广泛的适用性使其能够满足多种实验需求，显著提高薄膜制备的效率和质量。无论是在科研还是生产中，ACT-220AII 都能够为用户提供可靠的解决方案，助力薄膜技术的发展。
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