SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗机 半导体 / 电子行业表面处理优选

在半导体封装、电子器件制造等精密工艺中，基板表面的有机残留、光刻胶灰化等污染物，直接影响器件性能与良率。传统湿法清洗易造成基板损伤，真空清洗设备成本高、操作复杂，而SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗机凭借温和的干式工艺，成为行业内高效且安全的表面处理解决方案。

这款设备无需真空系统，在大气压下即可稳定运行，通过紫外光激发臭氧，配合加热台面的温度控制，实现对硅、玻璃、GaN/GaAs/InP/SiC 等化合物半导体、蓝宝石、陶瓷基板的有机物高效去除。可处理 φ100 mm 基板及 4 英寸晶圆，加热台面不仅能加快清洗速率，还能模拟实际制程温度，让工艺结果更贴近生产场景。

SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗机在设计上充分考虑了工业使用的安全性与便捷性：配备上盖连锁机制，上盖开启时系统无法运行，避免误操作；自带臭氧分解装置，确保排气时臭氧浓度降至安全范围；同时支持自动 N₂ purge 循环、加热台面保险丝保护、臭氧洗涤及紧急停止按钮，保障生产安全。

它的应用场景十分广泛：可用于塑胶封装及引线框架的表面清洗，也能完成化合物半导体的表面处理；还能实现表面改质（提升亲水性与附着力）、表面氧化（形成氧化薄膜）、光阻灰化与残留清洗等多种工艺需求，是半导体研发、小批量生产的理想设备。

作为 SAMCO 品牌的经典机型，UV-1 以其精简紧凑的结构、稳定可靠的性能，深受电子制造、科研院所用户的认可。我们提供专业的选型支持、安装调试与技术服务，可根据您的基板类型与工艺需求，定制清洗方案。