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实验室表面处理利器！SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗机，高效温和不损伤样品
在半导体、材料研发、精密制造等实验室场景中，样品表面的有机污染物、残留杂质，一直是影响实验精度、产品良率的关键问题。传统清洗方式不仅流程繁琐，还容易损伤敏感基材，今天给大家推荐一款专业的表面处理设备 —— 日本 SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗机，用紫外光 + 臭氧 + 台面加热的三重作用，温和高效去除有机污染物，适配多种基材，是实验室表面处理的理想选择。
一、核心原理：三重作用，温和高效
UV-1 采用独特的紫外光照射 + 臭氧生成 + 台面加热的协同作用原理：氧气经滤尘后生成臭氧，在紫外灯照射下分解为高活性氧自由基，与样品表面的有机物发生氧化反应，将其分解为二氧化碳和水等挥发性物质，从而实现清洗；加热台面可加速清洗速率，同时满足不同工艺的温度需求。整个过程在大气压下完成，无需真空系统，操作便捷，且不会产生静电损伤，可保护 GaN、SiC 等敏感化合物半导体基材。
二、产品特色：实验室友好型设计，安全省心
宽适配性，多基材兼容：可处理 φ100mm 基板及 4 英寸晶片，覆盖硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）、蓝宝石、陶瓷等多种基材，满足不同实验场景需求。
紧凑设计，节省空间：设备结构精巧，占用实验室空间小，适合各类实验室布局。
常压操作，无需真空：在大气压下即可运行，无需搭配复杂的真空系统，降低使用门槛和维护成本。
温和工艺，无损伤处理：全程无静电、无机械损伤，不会破坏样品结构，尤其适合敏感电子材料。
多重安全防护：配备上盖连锁机制（上盖开启时系统无法操作）、自动 N₂ purge 循环、加热台面保险丝保护、臭氧分解装置、紧急停止按钮等多重安全设计，保障操作人员安全，同时将排气臭氧浓度降至安全标准。
臭氧无害化处理：内置臭氧分解装置，避免臭氧排放污染，符合实验室环保要求。
三、应用场景：覆盖多领域实验室需求
塑封封装及引线框架表面清洗
化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）表面清洗
表面改质（亲水性及增进附着力）
表面氧化（氧化薄层的形成）
光阻的灰化、去除、残留清洗
去除有机污染物
UV 硬化
SAMCO 作为日本的半导体工艺设备品牌，拥有多年的设备研发经验，产品以稳定的性能、精巧的设计，广泛应用于各类科研实验室、半导体研发机构。UV-1 紫外臭氧清洗机，从清洗效率到操作安全性，都做到了行业较高水平，是实验室表面处理、样品前处理的高效利器。
如果你正在找一款温和高效、适配多基材、安全省心的表面清洗设备，不妨试试 SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗机，让样品前处理更高效、更精准！
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