Impedans 朗缪尔探针：等离子体工艺精准诊断，科研产线双在线

在半导体刻蚀、沉积、材料表面改性等等离子体工艺中，电子温度、离子密度、等离子体电位等核心参数，是决定工艺稳定性与产品良率的 “隐形密码"。传统监测手段无法精准量化等离子体状态，导致工艺优化难、良率波动大，成为行业卡脖子难题。针对这一痛点，比利时 Impedans 推出朗缪尔探针（Langmuir Probe）等离子体测量系统，作为等离子体诊断的 “金标准" 设备，可实时精准测量等离子体全维度关键参数，为半导体、材料科研等领域提供可靠的工艺管控与研发支撑。

朗缪尔探针通过向探针施加扫描电压，采集探针电流 - 电压（I-V）特性曲线，基于等离子体物理理论反演计算，精准获取电子温度、离子密度、等离子体电位、浮置电位、电子能量分布函数等核心参数。系统内置专业射频滤波技术，可有效抑制射频干扰，保障高射频等离子体环境下的测量精度，哪怕是复杂工况也能输出稳定可靠的数据。

该系统采用模块化设计，支持多种法兰接口，可快速安装在各类真空腔室，兼容几乎所有腔型，部署灵活不挑场景。搭配直观易用的专业分析软件，适配 Windows PC / 笔记本，界面友好，一键式数据采集、分析、可视化，无需复杂编程，新手也能快速上手。可选配线性驱动空间扫描系统，自动扫描晶圆 / 腔室空间，实现等离子体二维 / 三维空间表征，适配半导体工艺均匀性检测需求。同时支持单探针、双探针、平面、球形、马赫探针等多种探头，探头头可快速互换，适配不同工况，还提供固定轴、柔性轴等多种型号，狭小空间、特殊腔室也能轻松安装。超 100 篇学术出版物采用该系统数据，被学术界广泛认可为可靠的等离子体测量数据源，学术级可靠性拉满。

系统由机架式电子控制单元、多种规格朗缪尔探针探头、专业分析软件三部分组成，核心部件性能稳定，可满足长期连续测量需求。同时支持线性驱动空间扫描系统、射频滤波增强模块、多探头自动切换系统、定制化柔性轴、特殊探头等多种拓展功能，可根据不同使用场景灵活配置，满足个性化工艺需求，一台设备覆盖全流程检测。

该系统广泛应用于半导体制造、科研实验室、材料表面处理、新能源、航空航天等多个领域。在半导体制造中，可用于刻蚀、沉积、清洗等等离子体工艺的参数监控、工艺优化、均匀性检测；在科研实验室中，可用于等离子体物理基础研究、新型等离子体源研发、空间等离子体模拟；在材料表面处理领域，可用于等离子体镀膜、表面改性、等离子体清洗工艺的参数管控；在新能源领域，可用于光伏、燃料电池等领域的等离子体工艺研发与产线监控；在航空航天领域，可用于空间等离子体环境模拟、航天器等离子体相互作用研究，为各行业等离子体工艺研发与质量管控提供有力保障。