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日本Filgen uv253mini紫外臭氧清洗机应用场景与性能介绍

精密实验对基材洁净度的要求高,哪怕是肉眼不可见的微量有机残留,也会直接造成镀膜脱落、实验数据偏移、器件良品率下降。传统清洗方式各有短板,溶剂浸泡容易腐蚀特殊薄膜基材,超声波清洗会震损薄型试样,人工擦拭不仅效率低,还容易产生二次污染,很难满足高精实验的预处理标准。对于中小型实验室而言,大型真空清洗设备造价高、占地大,实用性极低。
Filgen uv253mini小型紫外臭氧清洗机,主打轻量化精密清洗方案,适配各类实验的前置处理工序。设备依靠紫外光配合臭氧的协同氧化作用,温和分解基材表面油污、有机残留与微量杂质,全程无接触、无耗材、无化学残留。玻璃、石英晶片、硅片、高分子薄膜等各类精密试样,都可以通过该设备完成洁净处理,不会损伤基材表层结构。
设备无需复杂安装调试,开机即可作业,清洗时长可按需微调,适配小批量、多品类的试样清洗需求。机身小巧不占用实验台面,运行稳定静音,适配高校实验室、科研院所、精密电子研发工作室等场景,是精密试样预处理的高适配小型设备。


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