技术文章
日本笠原理化工業 CU-800铜浓度监测仪技术特点与科研应用场景
在环境监测、精细化工生产及液相科研试验领域，水体与各类化工溶液中的铜离子含量，是评判介质品质、工艺稳定性及环保合规性的核心参考参数。电镀加工、化工废液处理、水环境治理等场景，都需要依托稳定的铜离子数据完成工艺调整与指标核验。传统化学滴定、显色比对等检测方式，依赖人工操作步骤多，试验流程耗时久，人为操作带来的数据波动较为明显，且难以适配现场实时监测需求，仅能满足基础抽检场景，无法适配现代化科研与工业精细化管控标准。
笠原理化工業CU-800铜浓度监测仪依托专属金属离子传感检测技术研发，针对液相铜离子含量开展专业化定量检测，适配水环境、化工工艺液等多种介质检测场景。设备检测量程适配常规科研试验与工业生产需求，输出数据稳定性好，多次检测结果一致性高。产品搭载双重检测模式，可完成实验室静态试样取样检测，也可接入生产线实现工况实时在线监测，兼顾科研试验与现场管控的双重使用需求。设备内置抗干扰算法，可弱化液相杂质、环境温湿度波动带来的检测干扰，降低数据偏差。整机运维简单，校准流程便捷，操作门槛低，可常态化应用于环保水质调研、化工配比参数核验、金属离子含量专项科研试验等场景，为各类液相介质铜离子浓度的标准化管控提供可靠的技术支撑。
简介：CU‑800 为一体式流通型铜浓度监测仪，采用吸光光度法，对硫酸铜电镀液、氯化铜蚀刻液做连续在线检测。检测部与转换器一体化设计，安装、校准、维护便捷，输出 4‑20mA 信号，可对接控制器实现药液浓度闭环管控，多用于 PCB、电子电镀产线。
规格：测量量程：高浓度 0.0‑80.0g/L；低浓度 0.00‑20.00g/L分辨率：高浓度 0.1g/L；低浓度 0.01g/L精度：±2%（规定条件）显示：红色 LED4 位数字显示信号输出：隔离型 DC4‑20mA，负载 250‑500Ω，3 档量程切换温度补偿：自动温度补偿样品液温度：0‑70℃环境使用温度：0‑40℃电源：AC100/110V，功耗≤20VA
接液材质：PPS、蓝宝石、PP
特性：1、整机一体化流通结构，无需分体探头，减少现场布线，产线管路直接接入即可使用，降低维护工作量。2、分高、低浓度两种规格，兼顾高浓度氯化铜蚀刻液与中低浓度硫酸铜电镀液测量。3、搭载自动温度补偿，消除药液温度波动带来的测量偏差，保障生产过程数据稳定。4、隔离 4‑20mA 模拟输出，可连接记录仪、PLC、加药控制器，实现自动补液闭环控制。5、接液部件耐盐酸、蚀刻药液腐蚀，适配 PCB 蚀刻、电镀的强腐蚀工况。
6、支持标准溶液校准，也可参照实验室滴定数值做比对校准，现场调试简单。
应用场景：1、PCB 线路板厂氯化铜蚀刻工序铜离子在线连续监测2、电子行业硫酸铜电镀槽液铜浓度管控3、表面处理、五金电镀生产线药液浓度监控4、化工制程含铜药液实时检测
在线客服