行业痛点: 半导体、陶瓷、金属制样时,多样品同时研磨压力不均,平行度差异导致返工。传统研磨设备采用共享加压系统,多个样品之间的压力分配难以精确控制。对于需要高平行度和高重复性的材料制样,这一问题尤为突出。
方案内容: IMT Rana-5精密研磨机,采用个别荷重方式,每个样品独立加压,压力范围10至50N,确保研磨一致性。该设备研磨盘直径为Φ250mm,转速范围50至400rpm,支持正反转;样品夹持转速为50至200rpm。设备可同时放置1至6个样品。操作方面,Rana-5采用防水触控屏操作面板,可存储16组研磨条件,支持ABC三段设定。
技术参数: 研磨盘Φ250mm,50~400rpm正反转。样品夹持50~200rpm。压力10~50N独立加压。尺寸W450×D640×H520mm,重量约94kg。电源单相100V或220V。
应用领域: 半导体、金属、陶瓷、脆性材料、复合材料、涂层
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