桌面型溅射镀膜利器！ARIOS SS-DC・RF301 小型溅射装置

在实验室材料镀膜研发场景，小型高效、功能齐全的溅射镀膜设备是核心需求。日本 ARIOS 推出的 SS-DC・RF301 小型溅射装置，以 JIS 机架紧凑集成、DC/RF 双电源可选、高真空性能的优势，成为桌面型溅射镀膜的优选方案。

该设备搭载 2 英寸磁控管阴极，可利用氩气等离子体实现高附着力的坚固镀膜，撞击粒子能量高，膜层结合力优异。设备将所有功能紧凑集成在标准机架内，仅占办公桌约一半空间，小型轻量易部署，同时拥有与大型溅射装置同等的规格性能。支持基板上下手动调节机构，可任意设定靶材与基板的距离，适配多样化镀膜需求；基板加热温度达 500℃，可选 800℃高温款，满足不同材料镀膜工艺。

设备真空性能优异，可达 3×10⁻⁴Pa 以下高真空，漏率低至 1×10⁻⁸Pa・m³/sec，搭配涡轮分子泵与隔膜泵，保障镀膜环境稳定。标配冷水机，仅需电力和氩气即可运行，使用便捷；法兰可互换，支持溅射上 / 溅射下两种安装方式，适配不同实验布局；DC/RF 溅射电源可选，满足金属、绝缘材料等不同靶材的镀膜需求。还提供带更换室的 UHV 兼容型溅射装置，满足超高真空实验需求。