洁净真空实验利器！ARIOS UHVPS 超高真空排气装置

在材料镀膜、刻蚀、真空实验等科研与工业场景，稳定洁净的超高真空环境是实验成功的基础。日本 ARIOS 推出的 UHVPS 超高真空排气装置，依托 20 余年超高真空设备制造技术，以高真空度、易维护、高性价比的优势，成为真空实验的核心配套设备。

装置从材料选择、焊接、清洗到表面研磨处理全流程严控工艺，腔体采用 SUS304 不锈钢并做镜面电解研磨处理，漏率低至 6.7×10⁻¹¹Pa・m³/sec，空载状态下可达 1×10⁻⁴Pa 以下高真空，为镀膜、刻蚀等实验提供无杂质污染的洁净环境。主腔体标配样品更换舱门，可自由组合等离子体源、加热机构、蒸镀源、气体供应系统等组件，适配各类真空实验需求。

设备采用紧凑型腔体与极简结构设计，本体仅约 60kg，尺寸 500mm×600mm×1100mm，搭配带脚轮与减震器的移动台架，部署灵活；结构简单易拆解，日常维护轻松便捷，大幅降低运维成本。以最小限度配置打造手动型设备，无需复杂自动化系统，以低成本即可引入，适配预算有限的实验室与研发场景，同时支持根据客户要求定制化设计制造，满足个性化实验场景。

装置搭载涡轮分子泵与罗茨泵组成的排气系统，搭配冷阴极真空计实时监测真空度；电源采用单相 200V/15A，需 0.4~0.6MPa 压缩空气驱动；腔体采用 SUS304 O 型圈密封，保障真空稳定性，客户可按需选择不同品牌泵组，灵活适配实验需求。

该设备广泛应用于高校科研实验室、材料研发机构、半导体企业，可作为 MBE 装置、分子线源等设备的配套真空系统，也可独立用于真空镀膜、表面刻蚀、材料真空处理等各类实验，是真空科研领域的通用型核心设备。