日本 JFE FiDiCa S 系列膜厚分布测量装置介绍

日本 JFE FiDiCa S 系列膜厚分布测量装置，是专为半导体与薄膜工艺设计的量产级高速膜厚检测设备，支持从薄膜到极厚膜的宽量程测量，适配从研发到缺陷检查的全流程应用。

系列包含三种核心型号，覆盖不同膜厚需求：

设备支持 4~12 英寸晶圆及 A4 尺寸样品检测，单晶圆测量速度控制在 2 分钟以内，高效完成全片扫描。重复再现性优异，薄膜 / 厚膜型号 3σ<1.0nm（1μm SiO₂膜条件下），极厚膜型号 3σ<10nm，确保数据稳定性。装置尺寸约 W810×D820~880×H2000 毫米，适配大规模生产环境部署。

装置可检测 SiO₂膜、溅射膜、抗蚀剂、液膜、油膜、涂层膜等多种薄膜，以及晶圆、PET 薄膜、玻璃等基板材料的膜厚分布，通过直观的彩色分布图呈现膜厚均匀性，助力工艺优化与缺陷分析。

凭借高速测量、多量程兼容、量产级适配与高精度数据输出的优势，JFE FiDiCa S 系列成为半导体与薄膜工艺膜厚分布检测的理想设备，助力企业提升生产效率与产品良率。