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日本 SDI ND-0407-N1-CE 纳米浸渍提拉镀膜机 双轴联动与纳米级提拉原理拆解

提拉镀膜依靠基板从溶液中匀速提出时液面弯月面与溶剂挥发共同控制膜厚,提出速度越低、溶剂挥发越慢,膜层越薄越均匀。常规提拉机仅控制垂直Z轴,速度下限多在毫米每秒量级,无法满足纳米颗粒阵列与蛋白薄膜制备对超低速段的要求。ND-0407-N1-CE是SDI面向实验与研究开发的台式纳米提拉镀膜机,在Z轴之外增设X轴与θ角调节,两轴可独立或联动动作,配合触摸屏设定最多16个速度点、停止位置与停留时间,并可记忆8组运动程序。
运动控制逐层展开。Z轴行程150mm,X轴行程150mm,速度范围从1nm每秒到60mm每秒连续可变,低速度以纳米为单位步进;θ角机构使工件在提出过程中保持设定倾角或斜向拉出,改变液面接触角度与弯月面形状,用于斜向镀膜与密度梯度膜制备。连续点驱动模式可在一次提拉途中分段切换速度,按需求在不同区间调整膜厚;手动模式用于穿片与位置对位。标准夹具为聚丙烯材质,最大承载500g,最大加工高度100mm。
成膜应用覆盖蛋白薄膜、胶体晶体、纳米颗粒阵列与薄膜评价,两轴交替动作可依次浸入两种溶液实现交替吸附多层膜。设备本体W410×D256×H513mm约11kg,控制箱W380×D400×H200mm约10kg,电源AC100至240V、300VA,屏幕支持日英切换,CE标志合规版本面向出口研究环境使用。本机由京都大学平尾研究室指导开发;夹具材质、溶液兼容性与特殊基板适配以正式规格书为准。


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